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中微公司的5nm刻蚀设备已经通过台积电的认证

时间:2020-12-17 16:45:13

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中微公司的5nm刻蚀设备已经通过台积电的认证

四月:

认证: 突然觉得这个词,这个意思非常重要,今天听三圈老师讲解半导体公司,中微公司的5nm刻蚀设备已经通过台积电的认证。

这里的一旦认证就不会轻易换了,因为需要时间和精力。有的认证可能要花一年,还要花大量的认证经费。

越是高端的制造业的原材料和设备越需要认证,这样才能保证质量和精度。

四月:

1月3日

一、刻蚀原理

1、光刻其实指的是刻胶,刻硅片需要用化学溶剂(湿法刻蚀)或者电气气体(干法刻蚀)

/2、刻蚀机:中微公司的5nm刻蚀设备已经通过台积电的认证。北方华创也有用于14nm的刻蚀设备。

刻蚀机虽然单个价格没有光刻机归,但是需要的特别多,总价上差不多。

二、CMP简介:即化学机械研磨,是一种晶圆平坦化技术,最早用于镜片的研磨抛光,直到80年代,才被IBM引入硅片研磨。本质就是加上了刻蚀溶液的 旋转研磨。

13老股民肖久财:

中微公司(SH688012)研发投入才几个亿怎么研究光刻机啊?

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