英特尔对其主流台式机和笔记本电脑处理器的未来发展道路给予了非同寻常的见解，证实了一个名为Ice Lake的新处理器家族的存在。
曾几何时，该公司计划采用14纳米工艺制造Skylake，并采用10nm工艺制造的Cannon Lake，并于年底发货。但该计划已经出轨。 14纳米工艺需要比预期更长的时间才能卧床休息并开始正常工作。我们的理解是，英特尔让那些正在开发10nm技术的工程师帮助修复14nm。这有一些连锁效应。首先，它要求英特尔生产基于14nm的其他设计：去年的Kaby Lake使用第二代14nm +工艺，今年的Coffee Lake将采用第三代14nm ++工艺。
其次，它延迟了10nm。现在，直到Cannon Lake才最终成为现实，现在还不会出现10nm的部件。新确认的冰湖将采用第二代10nm工艺，10nm +。
英特尔目前的计划是将桌面和笔记本电脑芯片分开。桌面芯片将坚持14nm的变体，目前Kaby Lake和即将推出的Coffee Lake。笔记本电脑芯片会发散;不仅将有14nm ++ Coffee Lake笔记本电脑部件，还有10nm Cannon Lake部件。 AnandTech的Ian Cutress推测，拆分将由核心规模和力量推动;较小的15W器件将是Cannon Lakes，因为小芯片将最大化新的10nm工艺的产量。更大的处理器，从35瓦及以上，将坚持14nm ++和咖啡湖。
建立在10nm以上的冰湖可能会重新统一。原则上，第二代，更成熟的10纳米工艺应该可以为更大的芯片提供更高的良率，因此适用于更广泛的英特尔处理器。
支持所有这些延迟和新工艺的困难是开发生产就绪极端紫外（EUV）光刻技术的持续困难。使用称为“光刻”的光学工艺将电路和栅极图案转移到硅晶片。目前，它使用波长为193nm的紫外光。虽然这种大波长可用于制造具有更小特性的芯片，包括当前的14纳米处理器和10纳米器件，但这样做需要使用称为“多图案化”的技术进行复杂的多级制造。使用13.5nm光的EUV将使制造的这一方面变得更加简单 - 但是它提出了EUV光本身很难产生且难以操纵的问题。 EUV系统通常不能使用镜头（大多数镜头材料吸收EUV），只能使用镜子。
EUV是多年来即将发生的技术之一。自从20世纪90年代以来，它的到来一直在预料之中，希望商业上可行的系统在出货，但他们没有。然而，英特尔正在继续投资这项技术。工作EUV的发展将使新工艺更容易引入，至少在一段时间内。
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