【中科院5nm激光光刻技术，是不是预示着荷兰ASML将被我们取代？】
我们一直有这样的一种构想，我们的光刻机技术，能否将荷兰ASML的光刻机取代呢？然后，这种构想，在中科院5nm激光光刻技术的研究发布以后，似乎变得越发肯定。
但是，事实真的如此？我们真的能够取代荷兰ASML吗？带着这个疑问，我们一起来看一下。
首先，这个消息的来源是——
中国科学张子旸研究员和与国家纳米科学中心刘前研究员合作，在《纳米快报》上发表了题为《超分辨率激光光刻技术制备 5nm 间隙电极和阵列》的研究论文。
这篇论文主要让我们关注的就是，通过使用新型 5 nm 超高精度激光光刻加工方法。注意，这种方法是不是已经完全具有现实可行性？我们并不可知。
但是，我们国内的一些媒体听风就是雨，突然觉得我们似乎在光刻机技术方面有了突破，我们能够取代ASML的光刻机了。在这里，我不得不泼冷水了。
在之前我看到过荷兰ASML的CEO说，即使我们将光刻机卖给你们（中国）也不怕学会了光刻机，因为，一台光刻机由80000个精密零部件构成，如德国蔡司的光学镜头、美国的激光发生器，这些都是目前我们中国目前无法制造出来的。
我们的光刻机为何难以突破，因为不仅仅是激光光刻加工方法，还包括各种零部件，包括了单晶炉，晶圆划片机，光刻胶，电子级多晶硅，氟聚酰亚胺等等。很多内容都是被国外垄断，包括日本，美国等等国家我们确实想要突破，但是有些东西，你必须要看到，我们还是在被这些技术给限制住了。
但是，我们又必须知道，我们如果不去打破这种束缚，那么我们的路，可能会更难走，这可能就是为什么，我们在看到中科院5nm相关研发论文时的激动。我们也猜测未来能够在弯道超车，这是必定，也是必然的！
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