ASML近期频频向中国芯片行业释放善意,近期更大举在中国招募200名员工,增强为中国芯片提供服务的能力,业界人士认为这可能是ASML为两年后向中国出口第一代EUV光刻机做准备。
由于众所周知的原因,ASML无法自由出货,它当前无法给中国供应EUV光刻机,这是因为EUV光刻机为ASML当前最先进的光刻机,但是两年后当前的EUV光刻机就不是最先进的产品了。
台积电表示它的2nm工艺最快在2024年投产,这意味着ASML正在加紧第二代EUV光刻机的量产,以赶在2024年为台积电供应第二代EUV光刻机用于生产2nm工艺,如此一来到那时候第一代EUV光刻机就不是最先进的产品了。
技术的升级也在迫使ASML改善与中国芯片行业的关系,当前日本已采用无需光刻机的NIL工艺生产芯片,日本方面表示NIL工艺可以用于生产5nm工艺,对于中国来说,当前只要能量产7nm工艺就能满足国内九成的需求,如此中国可以寻求与日本合作研发NIL工艺绕过光刻机,如此情况下ASML当然不愿舍弃这一份利益。
由于全球除了Intel、三星和台积电研发7nm及更先进工艺之外,只剩下中国芯片制造企业还在研发7nm及更先进工艺,而前三者已采购完成第一代EUV光刻机,如此ASML的第一代EUV光刻机其实只剩下中国芯片这个客户,这也迫使ASML尽快寻找机会向中国出口第一代EUV光刻机。
ASML这两年在全球芯片市场颇为风光,不过它的苦处也只有它自己知道,它的产品只有光刻机这类产品,客户有限、需求也有限,芯片行业的周期性也导致它的业绩伴随着芯片行业起起伏伏。
经过了这几年全球芯片产能扩张之后,如今芯片行业似乎正步入下行阶段,芯片供给过剩越来越明显,芯片下行周期可能导致ASML再次过上苦日子,今年一季度它的营收下滑19%、净利润腰斩,如果芯片行业就此进入下行阶段,ASML的日子将会更苦。
如此情况下,中国恰恰是ASML最需要关注的市场,中国已是ASML最大的客户,采购了ASML大约三成的光刻机,如果芯片行业进入下行阶段,由于中国推进芯片自给率的战略规划,中国给ASML贡献的收入比例将进一步上涨,如此它更需要重视这个客户。
美国的做法却无法给ASML带来更多的收入,如今美国占全球芯片制造产能的比例只有12%,美国有意提升自己的芯片制造产能,然而在美设厂的台积电已被它的超高成本搞得苦不堪言,Intel的Intel 4工厂也没有在美国设立而是在爱尔兰,如此一来ASML听从美国的要求却无法带来更多的收入,而中国却已不断为ASML带来更多收入,基于利益考虑,ASML也得更看重中国的意见。
总的来说,接下来这两年全球芯片市场发生的变化,或许将迫使ASML为了生存而改变销售第一代EUV光刻机的态度,给中国供应第一代EUV光刻机的可能性在增加,毕竟这对于ASML和中国芯片行业来说都是共赢的结果。
如果觉得《或许再过两年 ASML将可以自由给中国供应EUV光刻机》对你有帮助,请点赞、收藏,并留下你的观点哦!