很多人都知道芯片界最厉害的，就是荷兰的ASML公司，一直都是处在芯片界的领头羊，核心技术他们当然不会随随便便的透露给我们了，毕竟这个企业的技术可以说真的是处在世界顶尖的位置。
根据近期的报道，中国自主研发的北斗三号芯片，成功的突破了22nm的技术限制，同样的配套的上海微电子技术也获得了突破，成功的研发出了22nm的光刻机，该项技术也获得了突破。值得注意的是，此前中国的光刻技术一直被限制在90nm的瓶颈里。
从技术角度来讲，这是我国半导体领域的一项重大突破。虽然仍旧比不上国际的高端水平，但也是绝大多数国家都无法完成的目标了，所以从大局观角度来看，这绝对是一则振奋人心的好消息。
虽然我国在光刻机、芯片方面都取得了重大突破，但是我们要走的路还是很长的，毕竟有许多国家已经在5nm光刻技术待了好久了，说不定3nm光刻技术马上研究出来了。我们中国还是不能松懈，要抓紧时间进行追赶，甚至反超，争取不再受限于人。
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