最近不少人在讨论国产芯片制造能不能绕开光刻机，从而进行弯道超车，但是光刻机技术目前还无法像其它一些技术能够被替代，比如传统汽油汽车可以被电动车取代，而如果你想要做一颗芯片，那么就必须要经过光刻机，否则芯片设计得再好也不过是一张图纸，而光刻机就像卡在脖子上的那个关键设备，不仅要考验你有没有，光刻机本身的先进与否也直接决定着芯片成品的竞争力。
很多人可能会问，问什么这么先进的光刻机居然掌握在荷兰ASML公司手中呢？其实光刻机也不全是靠ASML一家生产出来的，而是靠英特尔、台积电和三星等一些业界龙头半导体企业投资、入股等形式才做到了现在，最典型的例子就是目前最先进的EUV光刻机，研发难度和投入的资金难以想象，也是背后多家顶级半导体企业支持的结果。
而中国在半导体行业起步晚，资金和人才积累差距太远，到现在也只是做到芯片的基础研发和设计，真正能把芯片制造出来的公司少之又少，即使是中芯国际也只能购买荷兰ASML的光刻机，而且还不能买最先进的型号，这就是在关键领域被卡脖子的结果。
目前中国自主研发的光刻机在制程上还要落后ASML好几个时代，只能用来生产一些简单的芯片产品，中国现在唯一的办法也只能是慢慢把自主光刻机做起来，但是即使是这样，很多原材料和技术也需要依赖日本和美国等国家，实际上，在半导体芯片制造行业，如今没有一家企业能够包揽全局，美国如此，中国也是如此，所以说只能在我们力所能及的范围内发展光刻机技术，争取做到接近国际先进水平。
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