企业的发展是一个漫长的马拉松，先发不一定全是优势，也意味着，先行者惩罚，必须承担开拓的压力。尼康曾是光刻机巨头，光刻机可以说是尼康的天下，那时ASML是个名不见经传的小厂，别人吃肉，他只能喝汤，吃不饱但是也饿不死，一直不温不火，直到一次契机的出现。
我们知道光刻机是生产芯片的，原理就是用光来雕刻芯片电路图，光越细，刻的东西就越多，问题是细不下去了，怎么办，大家不停地缩短波长，但是到193纳米的时候，出现了瓶颈，想把光的波长缩短到157纳米，却发现几乎到了技术的极点，怎么也无法突破，为了攻克难关，整个半导体行业差不多都参与了进来，砸了数十亿美金，消耗了无数的人力物力，最后主要集中在两个方案，一个是尼康的稳健方案，就是在现在的技术基础上，做下升级，将现有激光升级到157纳米的f2激光，另一个是激进方案，直接采用全新的光源，跳过157纳米，直接到达10纳米级别。
但是商业是要考虑成本的，这两个方案在当时看来，要么成本太高，要么难度太大，当所有人都咬牙硬扛的时候，当时的台积电副总经理，林本坚提出了第三个天马行空的想法，能不能既不换光源也不升级，不就是把光变细吗？通过水折射一下不就细了吗？为什么一定要在空气里传播，193nm/1.4=132nm，远超157纳米，成本低，难度低，落地性高，设备无需大改，想办法把空气换成水，攻克介质难关就行了，更进一步，如果原理跑通的话，换成折射率更高的液体，理论上还能继续变细，可扩展性也非常的好。
这下很多人就不开心了，这就好比一群攀岩高手们咬紧牙关，你争我夺往山顶上爬，半山腰的时候体能透支，全靠意志在坚持，突然下面有人喊“哥们，这边有电梯”！攀岩者们就不高兴了，凭什么我们辛辛苦苦爬山，你按个电梯就上来了，凭什么我们投入海量人力物力，你改个介质就行了，你不要过来搅局。
于是林本坚就发表了很多，论文来消除疑虑，论证可行性，尝试说服各个大厂，采用以水为介质的方案，但基本上都被拒绝，毕竟大家没日没夜，投入了这么多，突然要作废了，改走另外一条路了，情感上不太能接受，最后只有ASML同意了，一方面他是一个小厂，掉头方便，没有那么多顾虑，巨头们都已经到半山腰了，他还在下面系鞋带，所以就试一下，万一电梯可以用呢，另一方面是利益驱动，ASML仔细分析过市场，发现搞定新技术的话，拿下两个龙头客户概率非常大，也就是说销量不用愁了，于是才决定采用。结果就是我们看到的，ASML异军突起，04年新产品研发成功，击败尼康09年ASML占据70%的份额，而尼康则变成了行业小弟，这也是ASML和光积电关系好的原因。
光刻机巨头ASML的崛起故事告诉我们，船越大，内部阻力就越大，临时掉头就越难，自我革命就越不可能，从来没有人规定，技术的赛道必须得是一维的，追赶一定要尾随，看得见的对手不可怕，可怕的是看不见的对手，有如刺客，意识到危险的时候往往已经就来不及了。
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