甚至，还有人认为，光刻机这种极其复杂的光刻机，难道不是外星科技的产物吗？
其实，并非如此！
阿斯麦ASML是全球第一家，也是唯一一家研制出EUV极紫外光刻机的厂商；
只有EUV光刻机（采用了波长为13.4nm的紫外线）才能够用于7nm制程及更先进制程芯片的制造！
阿斯麦ASML也是站在众多前人巨人的肩上成长起来的！
那么全球第一台光刻机到底是怎么来的呢？
1947年12月，大名鼎鼎的美国贝尔实验室的肖克利（“晶体管之父”）、巴丁和布拉顿共同研制出了一种点接触型的锗晶体管！（三人因此获得了1956年的诺贝尔物理学奖）
自此以后，光刻技术才有了发展的契机！
……
1958年，德州仪器的杰克·基尔比（集成电路的两位发明人之一）提出并发明了锗基底扩散工艺的集成电路！（2000年，杰克·基尔比因集成电路的发明被授予诺贝尔物理学奖，这是一个“迟到”了42年的诺贝尔物理学奖）
如果没有杰克·基尔比，就很难有如今的半导体产业盛况，电脑、手机等电子产品不知道牛年马月才能进入每一个家庭！
1959年，仙童半导体的罗伯特·诺伊斯（英特尔创始人之一）发明了硅基底平面工艺的集成电路！
由于硅集成电路变成了集成电路市场的主流，罗伯特·诺伊斯与杰克·基尔比，一起被誉为“集成电路之父”！
……
1956年，美国贝尔实验室用晶体管代替电子管，制成了世界上第一台全晶体管计算机！
随后，仙童半导体研制出了世界上第一个适用单结构硅晶片。
20世纪60年代，仙童半导体提出了CMOSIC（集成电路）制造工艺；
IBM研制出了第一台IC（集成电路）计算机IBM360；
美国GCA公司（美国地球物理学公司）开发出了光学图形发生器和分布重复精缩机！
……
20世纪70年代，GCA开发出第一台分布重复投影曝光机（光刻机）！
20世纪80年代，SVGL（美国硅谷集团光刻系统公司）开发出了第一代步进扫描投影曝光机（光刻机）！
1995年，日本佳能Cano研制出了300mm晶圆曝光机（光刻机）！
随后，阿斯麦ASML推出步进扫描曝光机（光刻机），采用的是193nm的波长！
，为了推进EUV极紫外光刻机等先进设备的研制，阿斯麦ASML推出了“客户联合投资专案”，英特尔、台积电、三星成为了股东，分别持有15%、5%、3%左右的股权！
当阿斯麦ASML搞定EUV光刻机之后，英特尔、台积电、三星享有了优先采购权！
咱们国内的上海微电子，研制的光刻机已经能够满足90nm光刻工艺需求！
光刻机研制之路，难如上青天！
哪怕它再难，咱们也要将它征服！
……
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