别被带节奏！14纳米节点DUVi预计下半年量产，让我们拭目以待
最近丑国联合某些国家企图再次加码“技术限制”，同时，网络上也充斥着大量悲观甚至绝望的声音。不排除是某些丑国养的宠物在带节奏。
在这里要告诉大家，不必惊慌，“技术限制”只能延缓我国制程工艺节点进步速度，却无法完全阻止。因为它们动手时间太晚了，现在国内有大量配套新成立的高新技术企业可以提供技术支持，“技术限制”反而可以促进这些高精尖企业快速发展。
从零开始研发需要耗费大量时间、人力物力验证某些技术，但已经拿到别人成熟产品的前提下，抄都抄不会吗？况且国内的02专项启动时间也差不多了，也不是毫无准备。
在此说点消息人士透露的消息，不予证实，但请一定要有信心，别被某些“50万”乱带节奏，导致自乱阵脚。
28纳米节点DUVi使用的双工件台原计划使用多轴激光干涉仪来实现，只可惜某司未能顺利量产，导致进度滞后。显然，最初某司还是低估了这种双工件台的技术难度，也说明科研没有一帆风顺，失败是常有的事。
幸好，我国启动重大项目时，向来是两条腿走路或者三条腿走路的。某司进展不顺的同时，哈工大却意外的研制出了平面光栅，精度方面直接超越了原来的多轴激光干涉仪。这反而加快了DUVi的性能提升速度，原计划推出28纳米节点DUVi，在平面光栅的加持下，下半年就可以推出14纳米节点DUVi，比原计划快了不少。
与此同时，哈工大也已经研制出精度达0.96纳米的激光干涉仪，为EUV光刻机双工件台的顺利量产打下坚实基础。
图1和图2为65纳米节点DUV双工件台。图3为平面光栅，初代就可以支持14纳米工艺节点，继续改进还将进一步提升。样机已有，但仍需要调试和不断迭代改进。在已经解决有无问题的前提下，“技术封锁”只会倒逼我国同行加速研发，最终某国只会被反噬，它的科技霸权瓦解速度只会更快！
技术的研发不会一帆风顺，一方面我们要全力以赴，另一方面我们也要对某些奋战在一线的研发人员给予更大的宽容。总之，道路是曲折的，前途是光明的！让我们拭目以待。
借用毛主席的一句话：封锁吧，封锁个十年八年就什么都有了！
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